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标的名称 | 一种化学机械抛光用纳米抛光液 | 项目编号 | ZL2023TJ0000455 |
挂牌开始时间 | 2024-03-28 | 挂牌截止时间 | 2025-03-27 |
专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明专利 |
IPC分类 | |||
专利号 | 2013101052386 | ||
授权日期 | 2014-12-10 | 到期时间 | 2033-03-27 |
应用领域 | 电子信息 | ||
简介 |
一种消除光强扰动的高稳定性光纤传感装置及解调方法。通过在参考光纤上引入了一个幅度恒定的正弦参考信号对光强扰动进行估计,消除光强不稳定引起的解调失真,提高传感系统的稳定性。在信号分离部分,利用解波分复用器对参考信号和待测信号进行分离。在解调部分通过对包含参考信号的干涉光强进行解调得到光强的变化,然后对待测信号的解调结果进行补偿。本发明的优点是:基于本发明的光路结构和解调方法,可以有效消除光源不稳定引起的解调失真。本发明利于光纤传感的阵列化,并可以使解调效果更加优越。 |
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拟转让/许可方式 | 技术许可 | 拟交易底价 | 面议 |
转让/许可方类型 | 高校 | 认证名称 | 天津理工大学 |
注册地址 | 天津市西青区宾水西道391号 | 注册资本 | 423297万元 |
转让/许可范围 | 仅国内 | ||
受让方资格条件 | 无 |