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| 标的名称 | 一种六方氮化硼单晶的方法 | 项目编号 | ZL2026TJ0001256 |
| 挂牌开始时间 | 2026-07-13 | 挂牌截止时间 | 2027-07-12 |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明专利 |
| IPC分类 | C部--化学;冶金|C30 晶体生长 | ||
| 专利号 | CN202211194854.9 | ||
| 授权日期 | 2023-12-01 | 到期时间 | 2042-09-29 |
| 应用领域 | 其他(先进无机非金属材料) | ||
| 简介 |
本发明涉及一种六方氮化硼单晶的方法,以金属Ni和氧化锂(Li2O)作为助溶剂,氮气和硼(B)或氮化硼(BN)作为源材料,通过助溶剂法生长大尺寸高质量的h‑BN单晶,在一定化料温度下恒温一定时间,使溶剂达到饱和状态并使B或BN充分溶解在熔剂中,再升温至生长温度且在氮气或氮氩混合气中恒温一定时间,以一定的降温速率降温,实现自发形核与生长。Ni和Li2O作为助溶剂,Li+与N极易结合,增加了N在熔剂中的溶解度,B与N在熔剂中结合。采用Ni‑Li+助熔剂体系,在高温常压下通过控制熔剂比例、氮氩气比例、浸泡时间、冷却速率等参数,生长不同尺寸及高质量的h‑BN单晶。 |
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| 拟转让/许可方式 | 完全转让;技术许可;技术入股;其他(委托开发等) | 拟交易底价 | 面议 |
| 挂牌方类型 | 高校 | 认证名称 | 天津理工大学 |
| 注册地址 | 天津市西青区宾水西道391号 | ||
| 转让/许可范围 | 仅国内 | ||
| 受让方资格条件 | 无 | ||